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Dernière mise à jour : 09/03/2026
  • Sakamoto, K., Ishikawa, H., Wake, T., Ishimoto, C., Fujii, J., Bentmann, H., Ohtaka, M., Kuroda, K., Inoue, N., Hattori, T., Miyamachi, T., Komori, F., Yamamoto, I., Fan, C., Krüger, P., Ota, H., Matsui, F., Reinert, F., Avila, J., Asensio, M.C. "Spatial Control of Charge Doping in n-Type Topological Insulators" Nano Letters., 21(10): 4415–4422. (2021).