Aller au menu principal Aller au contenu principal

MÉTROLOGIE

LIGNE DE METROLOGIE

La Ligne de Métrologie est une installation spécialement conçue pour la métrologie et la caractérisation d’optiques et de détecteurs dans les rayons X (métrologie dite à la longueur d'onde). La Ligne de lumière permet de mesurer, dans la plus grande partie du spectre couvert par le synchrotron, la réflectivité de surface, l'efficacité de diffraction de réseaux et de systèmes multicouches, ou encore de caractériser et calibrer des détecteurs X. De par sa polyvalence, elle est également d’intérêt majeur pour préparer, tester et mettre en place un large éventail d’expériences, développer de nouvelles techniques, ainsi que l’instrumentation associée.

Utilisant la lumière émise par un aimant de courbure, l'installation se compose de deux branches pouvant fonctionner simultanément : une branche XUV [30 à 1800 eV] et une branche X-durs [100 eV à 40 keV, avec possibilité d’accès au faisceau blanc]. Chacune de ces deux branches utilise un goniomètre UHV deux-axes pour la réalisation des expériences de métrologie sous vide. Sur la branche X-durs, cet équipement est complété par une table optique pourvue de divers systèmes de positionnement motorisés et permettant la mise en œuvre d’expériences à pression atmosphérique. Une station de photolithographie profonde en rayons X (LIGA) est également exploitée, en collaboration avec les équipes de l’Unité Mixte de Recherche CNRS/Thalès-R&T, pour la fabrication de microstructures de résolution micronique et de haut rapport de forme.

Cette infrastructure répond aux besoins des lignes de lumière de SOLEIL et des groupes expérimentaux (Groupe Optique / Groupe Détecteurs), de ses deux partenaires (CEA-DAM et LNE-LNHB), ainsi que de l’unité mixte de recherche CNRS/Thalès-R&T. Elle est également utilisée par diverses communautés scientifiques pour leurs besoins de recherche et développement depuis son ouverture en 2008.

Données techniques

Gamme en énergie

30 eV – 40 keV (monochromatique) avec accès au faisceau blanc

Deux branches fonctionnant en simultané

Source

Aimant de courbure D05-1°

Polarisation

linéaire

Optique

Branche XUV - Monochromateur VLS (30 – 1800 eV)

Branche X-durs - Monochromateur 2-cristaux Si 111 (3 - 40 keV) + accès au faisceau blanc

Détection

Diodes Si, Caméras Visibles et X, SDD

Instrument

Goniomètre deux axes sous vide

Table optique pour la branche X-durs

Station de photolithographie profonde rayons X (LIGA)

Thématiques scientifiques

Major disciplines

‐ Analysis of the photometric parameters of optical components: surface reflectivity  ‐  grating and multilayer diffraction efficiency ‐ filter transmission.

‐ Detectors characterization and calibration: photosensitive devices ‐ scintillators – optical relays.

‐ Development of optics and diagnostics for X‐ray beam spatial and spectral settings.

‐ Wavefront sensing (Hartmann and Interferometry), Adaptive X‐ray Optics, X‐ray phase metrology and X‐ray phase imaging.

‐ Primary X‐ray source as calibration standard ‐ Measurement of Material optical constants (LNE).

‐ Characterization of X‐ray and Plasma Diagnostics to be implemented on the future MegaJoule Laser (CEA‐DAM).

‐ Deep X‐ray Photolithography (LIGA).

Documents à télécharger