Une étude multi-techniques (LEEM*, LEED**, STM***) réalisée par une collaboration entre les équipes du LPN-Marcoussis, du synchrotron SOLEIL et du SPCSI, a permis de caractériser une nouvelle méthode d'élaboration de couches de graphène. Les couches sont obtenues sur des films minces de SiC déposés sur des substrats de silicium standards pour la microélectronique. Cette convergence entre une nouvelle technologie graphène et la technologie silicium est un pas vers la réalisation de composants électroniques de haute performance.