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 Scientific Opportunities

 Technical data

 Team

Description générale

HERMES est une ligne de phase III dédiée à la microscopie X. Elle permet de combiner deux types de microscopie. L’une de type Photon-Photon: la microscopie STXM. La deuxième est une technique de type Photon-Electron : La microscopie X-PEEM. Cette approche originale permet d’offrir à la communauté d’utilisateurs deux techniques très complémentaires, chacune adaptée à des thématiques scientifiques et à des environnements échantillons particuliers. La microscopie STXM permet principalement de sonder les propriétés de volume des échantillons avec des profondeurs d’analyse de l’ordre de quelques centaines de nanomètres. La microscopie X-PEEM est quant à elle une technique de surface, adaptée à un environnement ultravide, elle permet de sonder principalement les premiers nanomètres de la surface. Les deux microscopes opèrent dans la même gamme d’énergie avec des résolutions spatiales inférieures à 25nm. Les deux techniques exploitent la spectroscopie en rayons X pour l’imagerie et comme moyen de contraste, en l’occurrence un contraste chimique. Parallèlement, d’autres moyens de contraste peuvent se rajouter en exploitant directement les spécificités des techniques spectroscopiques. Ainsi, l’utilisation de la polarisation circulaire et linéaire de la lumière permet d’imager directement les domaines magnétiques, ferromagnétiques et antiferromagnétiques (XMCD et XMLD)... Finalement les deux méthodes peuvent être utilisées non pas uniquement pour imager des échantillons, mais aussi pour réaliser des mesures en spectroscopie locale (XAS, XANES, XPS, ARPES...) à une échelle nanoscopique.

 

Méthodes
LA MICROSCOPIE STXM  

La microscopie STXM est une technique de microscopie par balayage. Elle est basée sur la focalisation extrême du faisceau X à l’aide d’optiques focalisantes de type Bragg-Fresnel (Zone Plate). La taille du faisceau détermine ainsi la résolution de la méthode. Le faisceau X focalisé est scanné à travers la zone étudiée de l’échantillon et le faisceau transmis est détecté à l’aide de différents détecteurs (Caméra CCD, PM Scintillateur…).

  

LA MICROSCOPIE X-PEEM   La microscopie X-PEEM est une technique de microscopie parallèle. Un microscope X-PEEM est basé sur le principe d’un microscope électronique à basse énergie. Suite à l’absorption de photons, les électrons photoémis à partir de l’échantillon sont collectés, agrandis, analysés et finalement projetés sur un détecteur à l’aide d’une colonne de microscopie électronique. Nous obtenons ainsi sur le détecteur une image agrandie de la zone imagée de l’échantillon et reconstitué à partir des photoélectrons. 


 
Scientific Opportunities

Du fait de la complémentarité technique des deux microscopes, le programme scientifique de la ligne HERMES est très vaste et touche plusieurs communautés. Il est défini dans l’APS de la ligne et a reçu la validation du conseil scientifique de SOLEIL. Le programme couvre notamment les thématiques suivantes (pour plus de détails se rapporter à l’APS de la ligne) :

  • Magnétisme : Ce programme est principalement orienté vers l’étude des nanostructures et des matériaux magnétiques. Les études demandées couplent aussi bien les expériences d’imagerie que de spectroscopie locale. Cette thématique bénéficie directement de l’utilisation des polarisations circulaire et linéaire de la lumière synchrotron. Les aspects dynamiques (sous champ, courant induit,..) constitue aussi une grande attente de la communauté d’utilisateurs. Il y a d’autre part un fort intérêt pour les mesures en température, notamment pour s’adapter aux températures de Curie et de Néel des matériaux (150K-1000K). Plusieurs sujets sont développés sur la ligne : Electronique de spin, Jonction tunnel magnétique, anisotropie de couplage d’échange, nanostructuration et effet de taille, Système à ordres multiples (Multiferroïque…), Oxydes antiferromagnétiques, dynamique d’aimantation…
     
  • Surface et Interface : Cette thématique est exclusivement développée sur le microscope X-PEEM. La combinaison de la microscopie LEEM (Low Energy Electron Microscopy) et X-PEEM permet d’étudier in-situ et sur le même échantillon la structure, la morphologie, la chimie et les propriétés électroniques des surfaces et interfaces. Plusieurs problématiques peuvent ainsi être abordées : Croissance de couches minces, Catalyse et chimie des surfaces, magnétisme, surfaces semi-conductrices…
     
  • Nanomatériaux : Avec des aspects chimie, surface, matériaux durs, … là aussi forte demande de développement du couplage imagerie-spectroscopie locale, notamment les spectroscopies locales XPS, XAS, XANES… De façon générale cette thématique couvre l’étude des effets de basse dimensionnalité et d’auto-organisation sur les propriétés et la structure électronique des nanomatériaux.
     
  • Matière molle et polymères : Ce programme va bénéficier principalement des possibilités uniques de mesure à la fenêtre de l’eau (seuils K Carbone, Azote, Oxygène..). Ce programme nécessite aussi la réalisation de montages spéciaux pour l’étude d’échantillons hydratés (‘’Wet Cell ‘’, microfluidique,…). Finalement l’utilisation de la polarisation de la lumière permet de remonter localement à l’orientation des molécules lorsqu’elles sont greffées sur des surfaces par exemple.
     
  • Sciences de l’environnement et de la Terre : Ce programme allie les aspects minéralogiques et spectroscopiques de la microscopie STXM et profitera pleinement de la grande ouverture énergétique de la ligne. Plusieurs aspects sont abordés avec des frontières communes aux autres programmes notamment pour les parties bio-minéralisation, toxicité, chimie et nanostructure. Une attention particulière aux aspects spectroscopie locale notamment au seuil du carbone.
     
  • Biologie et médecine : Ce programme est relativement large et s’appuie aussi bien sur les aspects caractérisation structurelle (noyau cellulaire, bactérie, micro-organisme,..), identification et co-localisation chimique et de configuration que sur les aspects labellisation et translocation. Ce programme devrait bénéficier de façon significative du développement de la cryogénie et de la micro-fluidique.

Le tableau ci-dessous rassemble les besoins spécifiques de chacun de ces programmes.

Thématiques scientifiques 

 

Méthodes

Magnétisme   • Imagerie et Spectroscopie XMCD-XMLD
• Application de champ magnétique (<200Oe)
• Induction par courant pulsé
• Mesures dynamiques
• Température variable (150K-1000K)
• STXM et X-PEEM
  
Nanostructure   • Imagerie et Spectroscopie locale
• Analyse éléments traces.
• Morphologie, topologie
• Propriétés électroniques
• STXM et X-PEEM
• XAS et XPS 
  
Matière molle   • « wet cell », micro-fluidique
• Cryogénie
• XANES, XPS et ARPES 
  
Surface/Interface   • Imagerie et Spectroscopie locale
• Morphologie, topologie
• Propriétés électroniques
• LEEM, XPS, UPS , ARPES et PED 
  
Sc. Terre et environnement   • Imagerie et Spectroscopie locale
• XAS et XANES
• Détection éléments traces
• Contraste de phase 
  
Biologie et médecine   • Cryogénie
• Micro-fluidique
• « wet cell »
• XANES et XAS
• Contraste de phase 
  


 
Technical data

La ligne HERMES est installée sur une section moyenne (IM9). La ligne couvre la gamme d’énergie 70eV-2.5keV de façon à couvrir les besoins des programmes scientifiques de la ligne. En effet la ligne démarre juste en-dessous du seuil Si2p, couvre la gamme des seuils K des éléments légers (C, N, O..), les seuils L des métaux de transition, les seuils M des terres rares et finalement les seuils K du Si, S et P. En outre, la ligne permet de travailler avec la polarisation linéaire tournante (Horizontale à verticale), circulaire et elliptique.
Pour ce faire, la ligne dispose de deux onduleurs de type Apple-II: HU64 pour la partie basse énergie (1.7m, 25 périodes) couvrant la gamme 70-600eV. HU42 (1.8m, 42 périodes) pour la partie haute énergie 0.5-2.5keV.

Calculated flux for the HU64 aperiodic (Bleu) and the HU42 (Red) Undulators
Figure 1 : Calculated flux for the HU64 aperiodic (Bleu) and the HU42 (Rouge) Undulators

 

La ligne se décompose ensuite en cinq sections contenants :

  • Chambre miroir M1, défléchi le faisceau et absorbe la plus grande partie de la puissance thermique. 
  • Monochromateur VLS-VGD et multicouche. Il permet de combiner les deux types de monochromateurs de façon à couvrir toute la gamme d’énergie avec une bonne efficacité et une très bonne résolution, toute en gardant le même chemin optique.
  • Chambre de miroir de déflection M4,M5. Les miroirs permettent de défléchir le faisceau vers respectivement la banche X-PEEM et STXM
  • La branche X-PEEM. Le faisceau est focalisé à l’aide d’optique Kirk Patrick-Baez pour obtenir un faisceau de 7x25µm² au point de travail du microscope X-PEEM
  • La branche STXM. Cette branche contient un système de fente déterminant la source secondaire pour les optiques ZP ainsi que le microscope STXM.

Tout au long de la ligne sont disposés des systèmes de diagnostique de faisceau.

Gamme d’énergie   70 – 2500 eV
 
Source   Onduleur HU64 ( apériodique pour une haute rejection des harmoniques : Basse énergie
 
Onduleur HU42 : Haute énergie 
 
Flux à la source   < 1015 phs/s/0.1% b.p. sur toute la gamme 
 
Polarisation   Polarisation variable : Circulaire et linéaire variable en continue
 
Pouvoir resolvant   E/∆E > 5000 sur toute la gamme d’énergie
 
Optiques  

• Double miroir en mode chicane (2 angles d’incidence pour la rejection des harmoniques)
• Monochromateur double:

  • PGM en mode VLS-VGD (600 et 450 traits/mm) on mode à déviation variable (Petersen) pour la basse énergie. 
  • Réseaux Multicouches pour la haute énergie

• Branche X-PEEM : Miroirs de refocaliastion KB bender 
• Branche STXM : Lentilles ZP 
 

Taille faisceau   • Branche X-PEEM : 7µm x 25µm (VxH)
• Branche STXM : Φ300µm sur la ZP, 25nm sur l’échantillon 
 
Flux sur l’échantillon   • Branche X-PEEM : > 5.1012 Ph/s
• Branche STXM : > 1.1011 Ph/s 
 
Environnement
Echantillon
  • Branche X-PEEM :
  • Ultravide ou environnement contrôlé (P<1.10-5mbar)
  • Possibilité de préparation in-situ : Evaporation, Ar etching, Chauffage, clivage...
  • Analyse in-situ complémentaires: LEED, LEEM, Auger AES, Kerr.
  • Température échantillon : 150-2000K
• Branche STXM :
  • Vide secondaire, environnement contrôlé (<1barr)...
  • Champ magnétique < 200 Oe
  • Température échantillon : 150-600K 
  • Wet Cell, Microfluidique...
     
Schémas

Implantation HERMES

Figure 2 : Implantation HERMES

 

Synoptic of HERMES 

Figure 3 : Synoptic of the beamline

 

 

Team
Rachid BELKHOU
Responsable de ligne

+33(0)1 69 35 96 87
+33(0)6 08 00 16 67
+33(0)1 69 35 81 47  
Fax : +33(0)1 69 35 94 56
 

rachid.belkhou@synchrotron-soleil.fr
Sufal SWARAJ
Scientifique de ligne
+33(0)1 69 35 81 82
Fax : +33(0)1 69 35 94 56
 
sufal.swaraj@synchrotron-soleil.fr

Stefan STANESCU
Scientifique de ligne

 

+33(0)1 69 35 96 98 
Fax : +33(0)1 69 35 94 56

stefan.stanescu@synchrotron-soleil.fr

Adrien BESSON
Assistant ingénieur
+33(0)1 69 35 81 39
+33(0)6 08 00 16 67 
Fax : +33(0)1 69 35 94 56
 
adrien.besson@synchrotron-soleil.fr
Didier DALLE
Ingénieur de ligne
+33(0)1 69 35 91 36 
Fax : +33(0)1 69 35 94 56
 
didier.dalle@synchrotron-soleil.fr
Anatoly FIRSOV
Post-doctorant
+33(0)1 69 35 81 62
Fax : +33(0)1 69 35 94 56
 
anatoly.firsov@synchrotron-soleil.fr
Karim BENZERARA
Associé, IMPMC Paris
 
  karim.benzerara@impmc.jussieu.fr
Antoine BARBIER
Associé, IRAMIS/CEA
 
  abarbier@cea.fr
Abdelkarim OUERGHI
Associé, LPN Marcoussis
 
  abdelkarim.ouerghi@lpn.cnrs.fr
 
Collaborateurs
Prof. Ernst BAUER
Assia BAUER
ASU, Tempe, USA
 
ernst.bauer@asu.edu
Assia@asu.edu
J. VOGEL
N. ROUGEMAILLE
S. PINZZINI
O. FRUCHART
I. Néel, Grenoble
 
jan.vogel@grenoble.cnrs.fr
nicolas.rougemaille@grenoble.cnrs.fr
stefania.pizzini@grenoble.cnrs.fr
olivier.fruchart@grenoble.cnrs.fr
F. MONTAIGNE
M. HEHN
D. LACOUR
LPM, Nancy 
montaigne@lpm.u-nancy.fr
michel.hehn@ijl.nancy-universite.fr
daniel.lacour@ijl.nancy-universite.fr
J. DAILLANT
LIONS/CEA, Saclay
  

 jean.daillant@cea.fr

M. Krishnakumar
Saha Institut, India
  
 krishna.menon@saha.ac.in
  
 
Comité de ligne | Conseillers scientifiques
A. BRISSON
IECB, Bordeaux
  
B. KAULICH
ELETTRA, Trieste 
L. MICHOT
INPL, Nancy
 
J. RAABE
SLS-SPI 
J. DAILLANT
LIONS/CEA, Saclay
  
T. TYLISZCZACK
ALS, Berkeley
O. FRUCHART
I. Néel, Grenoble  
 
 
Anciens membres

NOM

Ancien rôle à HERMES

Actuellement

Gilles CAUCHON
 
Ingénieur R&D Ingénieur Optique SOLEIL
Nicolas ROUGEMAILLE
 
Post-doc CR (CNRS, I. Néel)
Odile BEZENCENET
  
Doctorante Scientifique THALES
Francesco MACCHEROZZI
  
Post-doc Scientist beamline ID06, DIAMOND (UK)
Azzedine BENDOUNAN
  
Scientifique ligne Scientifique ligne (TEMPO, SOLEIL)
Souliman EL MOUSSAOUI
  
Doctorant Post-Doc SIM beamline SLS-PSI (Suisse)
 
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